根據中國海關公布的數據,今年第一季度中國芯片進口數量較去年減少了321億顆,芯片數量降幅為22.9%,創下有史以來最高紀錄。

國產化替代率提升,是芯片進口量減少的一大原因。近兩年來,本土芯片發展突飛猛進,通過發展芯粒技術、芯片堆疊技術以提升芯片性能,滿足成熟工藝芯片的需求,國產芯片產能大幅提高,已經達到日產10億顆的水準,進一步加快了國產芯片替代步伐。

隨著本土芯片制造技術更迭,制造業競爭日趨激烈,對于芯片用水的要求也在不斷提高。以高頻科技為代表的國內超純水制備企業不斷深耕“純度”,憑借先進超純水工藝,引領本土供應鏈應對產業變革。

生產鏈競爭核心依舊聚焦技術壁壘及穩定性生產

伴隨本土半導體芯片市場競爭愈發激烈,市場青睞具備先進工藝及較優成本的廠商,例如海思、中芯國際等具有更高良品率和先進制程工藝成熟度的企業。而超純水作為芯片制造關鍵一環,與半導體生產良品率、生產成本等直接相關。正因如此,具備以上特征的半導體廠商,往往十分注重超純水生產企業的選擇。

眾所周知,集成電路是一種微型電子器件或部件,它對于清洗用水的水質有著極高的要求,一旦清洗用水中含有雜質,就會影響其電阻率,進而影響其成品率。而數據上1%的良品率變化,對于一個高產能工廠將意味著上億的利潤損失,甚至讓整座晶圓廠停擺。可見,選擇符合芯片生產要求的高品質超純水,是提升良品率,確保穩定性生產的先決條件。

此外,半導體企業愈來愈看重的生產成本也與超純水密切相關。行業統計數據表明,芯片生產的先進制程技術越進步,清洗步驟越多,用水量會呈指數級提升。典型的8吋晶圓的生產制造,每片需要消耗約2-4噸水;大于28納米制程的12吋晶圓生產制造,每片需要消耗約6-7噸水;當制程達到14-28納米時,12吋晶圓生產制造每片需要消耗約18-20噸水。根據臺積電公布的年報顯示,臺積電一年的耗水量在160億噸左右。其耗水量差不多達到半個三峽大壩的總蓄水量。因此,提高超純水品質,打造先進的水循環再生方案,是半導體企業降本增效的必由之路,也是贏得市場競爭的重要砝碼。

高頻科技為芯片高良品率、運營率帶去全方位解決方案

強大的市場依托下,半導體供應鏈服務商細化需求,不斷創新,已進入高速循環的良性競爭閉環。作為專注于芯片、顯示等半導體高端制造業二十多年的本土超純工藝技術企業,高頻科技不斷通過技術創新提升超純水工藝成熟度,為先進半導體工程及客戶提供高運營率、高良率的全方位解決方案。

通過在技術升級和工藝迭代等方面不斷深耕,高頻已具備超純水生產的全部核心工藝,特別是在PPB級別的TOC、溶解氧去除,以及PPT級別的硼、硅等特殊物質的去除方面優勢顯著。并憑借過硬的技術把控力和工程實踐經驗,針對有機物(TOC)、顆粒物、細菌、金屬和陰離子等影響良率的主要雜質,已經實現領先于行業的技術成果,產水水質接近絕對純度,電導率無限接近18.24MΩ•厘米的理論極限值,其純度可達99.9999999999%,為半導體穩定生產提供了保障。

為提升工業用水效能,降低半導體企業用水成本,高頻科技依托自有優秀半導體水系統專家,在確保超純水水質純度穩定達標的基礎之上,研發交付了超過30種可選回用水工藝技術,包括砂濾及炭濾器反洗水回用、砂濾及炭濾器正沖水回用、反滲透濃縮水回用、EDI和UF濃縮水回用、反滲透沖洗水回用、冷卻塔排放水回用、低濃度有機廢水回用等,已實現水制程回收率達75%-90%,讓每一滴超純水都可以循環再利用,從而大大降低企業的用水成本,提高整體競爭力;同時也可減少對自然資源的消耗,保障半導體用水安全。

芯片進口量銳減,凸顯出芯片國產化進程加快。今年初,國資委已經正式表示,將會加大對集成電路、工業母機等關鍵半導體領域的投入,協調“國家隊”與民營科技企業的合作,共同促進中國半導體產業的發展。在政策利好的加持下,這場半導體產業的新生與變革,高頻科技等具有先進工藝的超純水企業為本土供應鏈提供了強有力的支持。

同時,隨著5G、人工智能、物聯網等新興技術的快速發展,對半導體產業的需求在不斷增加,為超純水行業帶來更廣闊發展機遇。本土超純水企業須積極響應國家政策,加強技術研發和工藝創新,為半導體產業提供更加高效、可靠的超純水解決方案,以高質量發展兌現時代機遇,助力中國半導體產業實現跨越式發展。相信在未來,本土超純水企業將繼續秉承科技創新的理念,不斷提升超純水產品質量及服務水平,以優質的超純水解決方案,為推動半導體產業升級做出新的貢獻。

免責聲明：市場有風險，選擇需謹慎！此文僅供參考，不作買賣依據。

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