近日,美國芯片公司Marvell正式發布了全球第一顆3nm芯片,基于臺積電3nm工藝打造的數據中心芯片。據Marvell介紹,該芯片將從根本上提高下一代數據基礎設施的帶寬、性能和能效。

近幾年來,全球半導體企業制程競爭激烈。就出貨量而言, IC Insights 估計在2022年, 28nm以下的先進制程已經占到了總出貨量的50%以上,并且10nm以下的制程占比穩步提升中。

半導體的制程競爭牽動超純水領域新變革,國內超純水企業紛紛加快工藝技術創新步伐,滿足當下及未來半導體產業的用水要求。據悉,作為行業領先的本土超純工藝技術企業,高頻科技的超純水工藝已經在28nm芯片清洗領域廣泛使用,14nm領域已落地應用,已啟動7nm、5nm的研究步伐,未來將緊跟3nm時代,持續創新精進,不斷探索超純水的絕對純度,賦能半導體行業發展。

芯片制程進步,對超純水要求日趨提升

在半導體制作工藝中,80%以上的工序要經過化學處理,而每一道化學處理都離不開超純水。在硅片的處理工序中,一半以上的工序經過超純水清洗后便直接進入高溫處理過程,此時,如水中含有雜質,便會進入硅片造成器件性能下降,成品率低。因此,芯片行業用水是否合格,決定著產品的市場競爭力,超純水的制備也相應成為了芯片行業的“決勝點”之一。

隨著芯片制程的進步,對超純水清洗次數和水質的要求也不斷提升。比如90nm 的芯片清洗工藝約90道,到了20nm清洗工藝達到215 道。隨著芯片進入16nm以及 7nm 以下,清洗工藝的道數將會加速增長。

此外,半導體先進制程對雜質的敏感度更高,小尺寸污染物的高效清洗將更困難,解決方法除了需要增加清洗次數,還對半導體水質提出更高要求。超純水制備工藝需進一步發展,方可應對半導體行業工藝進階所需。

高頻科技高純度立足,滿足半導體行業發展新需求

根據新思界產業研究中心發布的《2023-2028年中國超純水行業市場供需現狀及發展趨勢預測報告》顯示,伴隨著全球半導體產業向中國轉移趨勢不斷加深,我國超純水消費規模占比全球總規模正不斷擴大,這也催生了數量眾多的超純水設備企業。

不過,半導體超純水制造工藝難度較大,包括機械過濾、活性炭過濾、反滲透膜過濾、紫外線消解、離子交換樹脂、0.2μm濾膜過濾等諸多復雜流程,對于設備和技術要求比較高。例如,顆粒物去除、脫鹽工藝、有機物去除、脫氣等方面的工藝,都需要合理控制相應的處理技術,同時也要嚴格設定相應的生產工藝。此外,我國部分超純水企業由于對于高標準的超純水生產設備控制和技術工藝研究不到位,又缺乏高水平的現場質量管理,以致于即便能夠按照超純水生產的一些指標來進行生產,所生產之后的成品仍然難以滿足實際的使用需求。因此,能滿足半導體用水要求的本土超純水企業并不多見,可以對接精細化制程的超純水企業更是少之又少。這其中,高頻科技是頗具代表性的一個。

作為行業領先的本土超純工藝技術企業,高頻科技專注于芯片、顯示等半導體高端制造業二十多年,為半導體高端制造等行業客戶提供領先的超純水與循環再生解決方案及裝備。高頻科技立足超純工藝能力,擁有資深的專業技術團隊,不斷融匯國內外先進的水處理技術,提升超純水系統的應用效率,并在反滲透、離子交換、膜脫氣、紫外線殺菌和TOC降解等多項關鍵技術產品材料中也有著行業性的應用創新成果。產水水質接近絕對純度,電導率無限接近18.24MΩ•厘米的理論極限值,其純度可達99.9999999999%,不斷滿足半導體行業日益提升的用水需求。

此外,深耕行業多年的高頻科技在與終端材料和規格的選擇、系統管路設計、超純水裝置的控制系統等方面都有自己的獨特心得和優勢,這使其生產的超純水成品可以更好滿足半導體企業實際的使用需求。

同時,針對半導體超純水運維復雜、麻煩,成本較高等行業痛點,高頻科技依托公司大批自有優秀半導體水系統專家的資深經驗,創立標準化運維專家模型,為半導體工廠量身定制一體化運維服務體系,滿足客戶全周期運維需求。此體系將逐步實現專家數據化,通過數字化運維滿足客戶可預見式養護、常規周期巡檢、應急故障處理等全周期運維需求,在省事、省心和舒心的同時,助推降本增效。

芯片是推動信息社會蓬勃發展的基石,掌握高端芯片的制造技術關乎國家未來在信息產業等關鍵領域的全球競爭力。發力高端芯片制造,除了光刻機等核心設備,還需要先進超純水制備工藝的參與。高頻科技等本土超純工藝技術企業厲兵秣馬,砥礪深耕,不斷探索領先超純水工藝,為半導體邁入“芯”征程,實現精細化跨越做出貢獻。

免責聲明：市場有風險，選擇需謹慎！此文僅供參考，不作買賣依據。

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